标题 |
![]() CCP脉冲等离子体在Beol AIO刻蚀工艺中的潜在应用
相关领域
占空比
等离子体
无线电频率
射频功率放大器
蚀刻(微加工)
材料科学
光电子学
等离子体刻蚀
脉冲功率
脉搏(音乐)
脉冲持续时间
功率(物理)
探测器
电气工程
光学
物理
纳米技术
激光器
工程类
CMOS芯片
放大器
图层(电子)
量子力学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society. CD-ROM) 作者:Chenglong Zhang; Qiyang He; Haiyang Zhang 出版日期:2016-09-01 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|