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标题
A numerical and experimental study on gap compensation and wavelength selection in UV-lithography of ultra-high aspect ratio SU-8 microstructures
超高长宽比SU-8微结构紫外光刻中间隙补偿和波长选择的数值与实验研究
相关领域
平版印刷术 材料科学 光学 折射率 抵抗 波长 宽带 纵横比（航空） 光刻 补偿（心理学） 下一代光刻 电子束光刻 光电子学 复合材料 物理 心理学 图层（电子） 精神分析
网址
http://dx.doi.org/10.1016/j.snb.2005.02.006
DOI
10.1016/j.snb.2005.02.006 doi
求助人
和谐幻柏 在 2024-12-02 17:50:16 发布自浙江，悬赏 10 积分
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