AES, EELS and XPS characterization of Ti(C, N, O) films prepared by PLD using a Ti target in N2, CH4, O2 and CO as reactive gases

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标题	AES, EELS and XPS characterization of Ti(C, N, O) films prepared by PLD using a Ti target in N2, CH4, O2 and CO as reactive gases 以Ti靶在N2、CH4、O2和CO为反应气体中PLD制备的Ti（C，N，O）薄膜的AES、EELS和XPS表征相关领域 X射线光电子能谱化学计量学材料科学三元运算钛分析化学（期刊）脉冲激光沉积氮气激光烧蚀碳纤维薄膜化学工程纳米技术激光器化学物理化学冶金复合数有机化学复合材料工程类物理光学程序设计语言计算机科学
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2004.03.212
DOI	10.1016/j.apsusc.2004.03.212 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：G. Soto 出版日期：2004-05-01
求助人	安璃在 2025-01-03 16:53:48 发布自河北，悬赏 10 积分
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