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 Etch rate and surface morphology control in photoelectrochemical etching of GaN 光电化学蚀刻中的蚀刻速率和表面形态控制
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena 作者：Bo Yang; Patrick Fay 出版日期：2004-07-01 |
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