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![]() 使用Y2O3和YF3保护涂层的大规模生产CF4/O2等离子体室侵蚀行为和颗粒污染的比较
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期刊:Nanomaterials 作者:T. Lin; Weikai Wang; San‐Yuan Huang; Chi-Tsung Tasi; Dong‐Sing Wuu 出版日期:2017-07-14 |
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