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Fabrication of a 50 nm half-pitch wire grid polarizer using nanoimprint lithography
用纳米压印光刻技术制作50nm半间距线栅偏振器
相关领域
纳米压印光刻
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期刊:Nanotechnology 作者:Seh-Won Ahn; Ki-Dong Lee; Jin-Sung Kim; Sang Hoon Kim; Joo-Do Park; et al 出版日期:2005-07-22 |
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