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 Chemical Bath Deposition of α-GaOOH with Tunable Morphology on Silicon Using the pH Adjustment 利用pH调节在硅上化学浴沉积形貌可调的α-GaOOH
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过饱和度
化学
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化学浴沉积
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期刊：Inorganic Chemistry 作者：Guislain Hector; Estelle Appert; Hervé Roussel; Isabelle Gélard; Vincent Consonni 出版日期：2023-05-09 |
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