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 Nitrogen Doped High Selectivity Amorphous Carbon Film for High Aspect Ratio Etch Process 用于高纵横比蚀刻工艺的氮掺杂高选择性非晶碳膜
相关领域
选择性
兴奋剂
无定形固体
材料科学
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化学
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期刊：Thin Solid Films 作者：Se Jun Park; Dohyung Kim; Song Yi Baek; Changsoo Lee; Jaehyun Kim; et al 出版日期：2024-12-01 |
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