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标题
Effective Optimization Strategy for Electron Beam Lithography of Molecular Glass Negative Photoresist
分子玻璃负极光刻的有效优化策略
相关领域
光刻胶 材料科学 反应性(心理学) 平版印刷术 极紫外光刻 阴极射线 电子束光刻 纳米技术 临界尺寸 表征(材料科学) GSM演进的增强数据速率 抵抗 光学 光电子学 电子 计算机科学 物理 病理 电信 替代医学 医学 量子力学 图层(电子)
网址
DOI
10.1002/admi.202300194 doi
其它 期刊:Advanced Materials Interfaces
作者:Jiaxing Gao; Siliang Zhang; Xuewen Cui; Cong Xue; Xudong Guo; et al
出版日期:2023-06-16
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苹果冰安 在 2024-09-11 15:15:49 发布自浙江,悬赏 10 积分
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