High-temperature atomic layer deposition of HfO2 film with low impurity using a novel Hf precursor

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标题	High-temperature atomic layer deposition of HfO2 film with low impurity using a novel Hf precursor 用新型Hf前驱体高温原子层沉积低杂质HfO2薄膜相关领域材料科学杂质原子层沉积特里斯图层（电子）沉积（地质）薄膜化学气相沉积分析化学（期刊）化学工程纳米技术有机化学化学生物工程类古生物学生物化学沉积物
网址	http://dx.doi.org/10.1039/d4tc01256a
DOI	10.1039/d4tc01256a doi
求助人	Colachips 在 2025-03-13 17:11:14 发布自上海，悬赏 10 积分
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