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Depth profiles of aluminum component in sequential infiltration synthesis-treated electron beam resist films analyzed by time-of-flight secondary ion mass spectrometry
用飞行时间二次离子质谱分析顺序渗透合成处理的电子束抗蚀剂膜中铝组分的深度分布
相关领域
抵抗 二次离子质谱法 聚合物 铝 分析化学（期刊） 飞行时间 材料科学 纳米光刻 离子束 次级电子 质谱法 基质（水族馆） 离子 静态二次离子质谱 氧化物 化学 纳米技术 电子 复合材料 图层（电子） 有机化学 制作 冶金 病理 地质学 物理 替代医学 海洋学 医学 量子力学 色谱法
网址
https://doi.org/10.35848/1347-4065/ab8a0a
DOI
10.35848/1347-4065/ab8a0a doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Shunya Ito; Yuki Ozaki; Takahiro Nakamura; Masaru Nakagawa
出版日期：2020-04-16
求助人
Ww 在 2024-10-20 11:13:02 发布自陕西，悬赏 10 积分
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