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标题
Effect of helium ion beam treatment on the etching rate of silicon nitride
氦离子束处理对氮化硅刻蚀速率的影响
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材料科学 蚀刻（微加工） 离子 氦 离子注入 硅 氢氟酸 氮化硅 缓冲氧化物腐蚀 反应离子刻蚀 分析化学（期刊） 离子束 原子物理学 光电子学 化学 纳米技术 冶金 物理 有机化学 图层（电子） 色谱法
网址
https://doi.org/10.1016/j.nimb.2015.02.054
DOI
10.1016/j.nimb.2015.02.054 doi
其它 期刊：Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B Beam Interactions with Materials and Atoms
作者：Yu. V. Petrov; T. V. Sharov; А. П. Барабан; О. Ф. Вывенко
出版日期：2015-03-03
求助人
舒适的曼彤 在 2024-11-27 15:06:24 发布自福建，悬赏 10 积分
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