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Mechanism Analysis of Plasma Charging Damage on Gate Oxide for HDP FSG Process
HDP FSG工艺栅氧化层等离子体充电损伤机理分析
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期刊:ECS transactions 作者:Xi Li; Peng Wang; Jiao Bu; Yuwei Liu; Gang Cao; et al 出版日期:2010-11-23 |
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