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Systematic studies of the effects of group-III dopants (La, Y, Al, and Gd) in Hf0.5Zr0.5O2 ferroelectrics by ab initio simulations
Hf0.5Zr 0.5 O2铁电体中III族掺杂(La、Y、Al和Gd)效应的从头计算系统研究
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期刊:Applied Physics Letters 作者:Zhao Liang; Jirong Liu; Yi Zhao 出版日期:2021-10-25 |
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