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标题
Hf0.5Zr0.5O₂-Based Ferroelectric Field-Effect Transistors With HfO₂ Seed Layers for Radiation-Hard Nonvolatile Memory Applications
用于抗辐射非易失性存储器应用的具有HfO₂种子层的Hf0.5Zr 0.5 O₂基铁电场效应晶体管
相关领域
铁电性 材料科学 光电子学 分析化学（期刊） 化学 有机化学 电介质
网址
http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/16/9520090/09481872.pdf?...
DOI
10.1109/ted.2021.3095036 doi
其它 期刊：IEEE Transactions on Electron Devices
作者：Chen Liu; Wenwu Xiao; Yue Peng; Binjian Zeng; Shuaizhi Zheng; et al
出版日期：2021-07-14
求助人
李沐唅 在 2024-11-27 19:43:00 发布自贵州，悬赏 10 积分
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