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 A Two‐Step Dry Etching Model for Non‐Uniform Etching Profile in Gate‐All‐Around Field‐Effect Transistor Manufacturing 全栅极场效应晶体管非均匀刻蚀轮廓的两步干法刻蚀模型
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期刊：Small 作者：Ziyi Hu; Junjie Li; Rui Chen; D. S. Shang; Yayi Wei; et al 出版日期：2024-10-11 |
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