| 标题 |
 EUV metal oxide hybrid photoresists: ultra-small structures for high-resolution patterning EUV金属氧化物混合光刻胶：用于高分辨率图案化的超小型结构
相关领域
极紫外光刻
抵抗
材料科学
极端紫外线
平版印刷术
下一代光刻
X射线光刻
光电子学
纳米颗粒
光刻
光学
纳米技术
电子束光刻
激光器
物理
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊： 作者：Kazuki Kasahara; Vasiliki Kosma; Kazunori Sakai; Emmanuel P. Giannelis; Christopher K. Ober; et al 出版日期：2018-03-19 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
劲秉
科研小民工
昏睡的蟠桃
cdercder
一一
pluto
yanzu
Cactus
snowy
子车茗
tramp
zho
iNk
默默地读文献
随遇而安
nozero
SYLH
kingwill
勤恳丹妗
眯眯眼的衬衫
皖公网安备34019202002308
