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标题
Study on the effect of sputtering pressure on the physical properties of InN films on ITO substrate and the dependence of carrier transport characteristics of Li-doped p-NiO/n-InN heterojunction on the environmental temperature
溅射压强对ITO衬底上InN薄膜物理性能的影响及掺锂p-NiO/n-InN异质结载流子输运特性对环境温度依赖性的研究
相关领域
溅射 材料科学 氮化铟 异质结 光电子学 基质(水族馆) 兴奋剂 溅射沉积 带隙 透射率 Crystal(编程语言) 薄膜 氮化物 纳米技术 图层(电子) 海洋学 地质学 计算机科学 程序设计语言
网址
DOI
10.1016/j.vacuum.2023.112833 doi
其它 期刊:Vacuum
作者:Zhen He; Haoxuan Huang; Jian Huang; Guojiao Xiang; Jinming Zhang; et al
出版日期:2024-02-01
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RYAN 在 2024-06-05 21:23:10 发布自福建,悬赏 10 积分
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