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Effect of ferroelectric and interface films on the tunneling electroresistance of the Al2O3/Hf0.5Zr0.5O2 based ferroelectric tunnel junctions
铁电和界面膜对Al2O3/Hf0.5Zr0.5O2基铁电隧道结隧穿电阻的影响
相关领域
材料科学 铁电性 原子层沉积 异质结 氧化物 双层 非易失性存储器 光电子学 量子隧道 薄膜 纳米技术 电介质 膜 遗传学 生物 冶金
网址
http://dx.doi.org/10.1088/1361-6528/ac1ebe
DOI
10.1088/1361-6528/ac1ebe doi
求助人
yyy 在 2025-02-12 15:23:20 发布自江苏，悬赏 10 积分
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