标题 |
Optimization on gate-recessed AlGaN/GaN HEMT with low damage etching technique
低损伤刻蚀技术对栅极凹陷AlGaN/GaN HEMT的优化
相关领域
材料科学
高电子迁移率晶体管
蚀刻(微加工)
光电子学
感应耦合等离子体
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期刊: 作者:Liu Xinyu 出版日期:2009-01-01 |
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