标题 |
A novel media properties-based material removal rate model for magnetic field-assisted finishing
一种新的基于介质特性的磁场辅助光整加工材料去除率模型
相关领域
材料科学
磁场
复合材料
领域(数学)
机械工程
工程类
数学
物理
量子力学
纯数学
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DOI | |
其它 |
期刊:International Journal of Mechanical Sciences 作者:Chun Wai Kum; Takashi Satō; Jiang Guo; Kui Liu; David Butler 出版日期:2018-04-04 |
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