Mitigating pattern collapse in high-resolution extreme ultraviolet lithography using the organic dry development rinse process

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标题	Mitigating pattern collapse in high-resolution extreme ultraviolet lithography using the organic dry development rinse process 使用有机干显影冲洗工艺减轻高分辨率极紫外光刻中的图案塌陷相关领域极紫外光刻紫外线平版印刷术极端紫外线材料科学过程开发过程（计算）环境科学纳米技术光学工艺工程光电子学计算机科学物理工程类激光器操作系统
网址	https://doi.org/10.1117/1.jmm.23.3.034603
DOI	10.1117/1.jmm.23.3.034603 doi
其它	期刊：Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology 作者：Seonggil Heo; Seungjoo Baek; Mihir Gupta; Hyo Seon Suh; Kodai Kato; et al 出版日期：2024-09-09
求助人	快乐美女在 2024-12-20 19:40:02 发布自四川，悬赏 20 积分
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