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Controlled ALE-type recess of molybdenum for future logic and memory applications
用于未来逻辑和存储器应用的受控ALE型钼凹槽
相关领域
蚀刻(微加工)
钼
材料科学
氧化物
表面粗糙度
金属
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光电子学
溶解
纳米技术
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化学工程
复合材料
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工程类
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期刊: 作者:Antoine Pacco; Teppei Nakano; Akihisa Iwasaki; Shota Iwahata; Efrain Altamirano Sánchez 出版日期:2021-07-06 |
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