Si/SiO2 interfaces formed by remote plasma-enhanced chemical vapor deposition of SiO2 on plasma-processed Si substrates

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标题	Si/SiO2 interfaces formed by remote plasma-enhanced chemical vapor deposition of SiO2 on plasma-processed Si substrates 在等离子体处理的Si衬底上远程等离子体增强化学气相沉积SiO2形成的Si/SiO2界面相关领域等离子体价带材料科学化学气相沉积远程等离子体 Atom（片上系统）等离子体处理俘获透射电子显微镜原子物理学分析化学（期刊）化学带隙纳米技术光电子学物理嵌入式系统生态学生物量子力学色谱法计算机科学
网址	https://doi.org/10.1116/1.578163
DOI	10.1116/1.578163 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Yi Ma; Tetsuji Yasuda; S. Habermehl; G. Lucovsky 出版日期：1992-07-01
求助人	Zex 在 2025-01-01 20:21:03 发布自北京，悬赏 10 积分
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