标题 |
Pulsed N2 plasma surface treatment for AlGaN/GaN HEMTs prior to PECVD SiNx passivation to reduce plasma damage
PECVD SiNx钝化前AlGaN/GaN HEMT的脉冲N2等离子体表面处理以减少等离子体损伤
相关领域
钝化
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