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标题
Pyrolyzed Photoresist Thin Film: Effect of Electron Beam Patterning on Dc and Thz Conductivity
热解光刻胶薄膜：电子束图案化对直流和太赫兹电导率的影响
相关领域
光刻胶 太赫兹辐射 材料科学 光电子学 电导率 薄膜 阴极射线 电子 抵抗 电子束光刻 纳米技术 物理 图层（电子） 量子力学
网址
https://doi.org/10.2139/ssrn.4365896
DOI
10.2139/ssrn.4365896 doi
其它 期刊：
作者：Justinas Jorudas; Hamza Rehman; G. Fedorov; Maria Cojocari; Petri Karvinen; et al
出版日期：2023-01-01
求助人
诚心的金毛 在 2024-12-21 15:15:49 发布自上海，悬赏 10 积分
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