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标题
Mechanisms involved in HBr and Ar cure plasma treatments applied to 193 nm photoresists
HBr和Ar固化等离子体处理193 nm光刻胶的机理
相关领域
抵抗 光刻胶 拉曼光谱 X射线光电子能谱 等离子体 材料科学 椭圆偏振法 分析化学（期刊） 离子 化学 薄膜 纳米技术 化学工程 光学 有机化学 图层（电子） 工程类 物理 量子力学
网址
https://doi.org/10.1063/1.3116504
AI链接 hal.science archives-ouvertes.frdoi.org
DOI
10.1063/1.3116504 doi
其它 期刊：Journal of Applied Physics
作者：E. Pargon; K. Menguelti; M. Martin; Arnaud Bazin; Odette Chaix‐Pluchery; et al
出版日期：2009-05-01
求助人
waye131 在 2024-12-19 20:30:34 发布自上海，悬赏 10 积分
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