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标题
Pattern roughness analysis using power spectral density: application and impact in photoresist formulation
利用功率谱密度分析图案粗糙度：在光刻胶配方中的应用和影响
相关领域
抵抗 光刻胶 激光线宽 光谱密度 表面光洁度 平版印刷术 材料科学 表面粗糙度 光学 光电子学 纳米技术 数学 物理 统计 复合材料 激光器 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1117/1.jmm.20.1.010901
AI链接 spiedigitallibrary.orgdoi.org
DOI
10.1117/1.jmm.20.1.010901 doi
其它 期刊：Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology
作者：Charlotte Cutler; James W. Thackeray; Peter Trefonas; Dan B. Millward; Choong-Bong Lee; et al
出版日期：2021-01-28
求助人
许乐 在 2025-01-15 10:36:50 发布自上海，悬赏 20 积分
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