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 Effect of thickness of antimony selenide film on its photoelectric properties and microstructure 硒化锑薄膜厚度对其光电性能和微观结构的影响
相关领域
材料科学
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锑
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期刊：Chinese Physics B 作者：Xinli Liu; Yue-Fei Weng; Ning Mao; Peiqing Zhang; Changgui Lin; et al 出版日期：2022-08-05 |
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