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 Zeta potential-tunable silica abrasives and fluorinated surfactants in chemical mechanical polishing slurries 化学机械抛光浆料中ζ电位可调二氧化硅磨料和氟化表面活性剂
相关领域
化学机械平面化
材料科学
薄脆饼
泥浆
Zeta电位
抛光
磨损（机械）
胶体二氧化硅
纳米技术
制作
表面粗糙度
化学工程
复合材料
纳米颗粒
涂层
病理
替代医学
工程类
医学
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期刊：Wear 作者：Seung-Chul Hong; Deoksu Han; Keon‐Soo Jang 出版日期：2020-12-10 |
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