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 Growth Pressure Controlled Nucleation Epitaxy of Pure Phase ε- and β-Ga2O3 Films on Al2O3 via Metal–Organic Chemical Vapor Deposition 金属有机化学气相沉积纯相ε-和β-Ga2O3薄膜的生长压力控制成核外延
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金属有机气相外延
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材料科学
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镓
薄膜
相（物质）
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分析化学（期刊）
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期刊：Crystal Growth & Design 作者：Yuanpeng Chen; Xiaochuan Xia; Hongwei Liang; Qasim Abbas; Yang Liu; et al 出版日期：2017-12-21 |
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