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 First principles reaction processes of Co(CO)3NO as an atomic layer deposition precursor on SiO2 and Co surfaces Co（CO）3NO作为原子层沉积前驱体在SiO2和CO表面的第一性原理反应过程
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Nickolas Ashburn; Xiuyao Lang; Youhwan Jo; Yeonghun Lee; Xiaolong Yao; et al 出版日期：2024-07-29 |
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