Doping of phosphorus in chemical-vapor-deposited silicon carbide layers: A theoretical study

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标题	Doping of phosphorus in chemical-vapor-deposited silicon carbide layers: A theoretical study 化学气相沉积碳化硅层中磷掺杂的理论研究相关领域超单元化学气相沉积氢钝化材料科学硅碳化硅兴奋剂从头算碳化物磷从头算量子化学方法无机化学化学纳米技术冶金图层（电子）光电子学分子有机化学雷雨海洋学地质学
网址	https://doi.org/10.1063/1.2135493
DOI	10.1063/1.2135493 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：T. Hornos; Ádám Gali; R. P. Devaty; W. J. Choyke 出版日期：2005-11-17
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