Stress analysis of Mo, MoSi 2 and Si mono-layer thin films and multilayers prepared by magnetron sputtering

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标题	Stress analysis of Mo, MoSi 2 and Si mono-layer thin films and multilayers prepared by magnetron sputtering 磁控溅射Mo、MoSi2和Si单层和多层薄膜的应力分析相关领域材料科学溅射沉积压力（语言学）薄膜图层（电子）复合材料溅射极限抗拉强度抗压强度沉积（地质）腔磁控管光电子学冶金纳米技术语言学哲学古生物学沉积物生物
网址	https://doi.org/10.1117/12.860268
DOI	10.1117/12.860268 doi
其它	期刊：SPIE Proceedings 作者：Jingtao Zhu; Qiushi Huang; Haochuan Li; Fengli Wang; Xiaoqiang Wang; et al 出版日期：2010-10-05
求助人	阳光总在风雨后在 2025-03-06 21:39:41 发布自上海，悬赏 20 积分
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