Study of γ-ray irradiation influence on TiN/HfO2/Si MOS capacitor by C-V and DLTS

辐照 材料科学 深能级瞬态光谱 电容器 电容 分析化学(期刊) 光电子学 电压 电气工程 化学 电极 物理 工程类 物理化学 核物理学 色谱法
作者
Yun Li,Yao Ma,Wei Lin,Peng Dong,Zhimei Yang,Min Gong,Jinshun Bi,Bo Li,Kai Xi,Gaobo Xu
出处
期刊:Superlattices and Microstructures [Elsevier]
卷期号:120: 313-318 被引量:13
标识
DOI:10.1016/j.spmi.2018.05.046

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