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High-temperature carrier density and mobility enhancements in AlGaN/GaN HEMT using AlN spacer layer

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作者
Tsung‐Shine Ko,Der-Yuh Lin,Chia-Feng Lin,Che-Wei Chang,Jin-Cheng Zhang,Shang-Ju Tu
出处
期刊:Journal of Crystal Growth [Elsevier]
卷期号:464: 175-179 被引量:20
标识
DOI:10.1016/j.jcrysgro.2016.12.023
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