Non-Damaging Growth and Band Alignment of p-type NiO/β-Ga2O3 Heterojunction Diodes for High Power Applications

非阻塞I/O 异质结 光电子学 二极管 材料科学 功率(物理) 物理 化学 生物化学 量子力学 催化作用
作者
Ji Young Min,Madani Labed,Chowdam Venkata Prasad,Jung Yeop Hong,Young-Kyun Jung,You Seung Rim
出处
期刊:Journal of Materials Chemistry C [The Royal Society of Chemistry]
卷期号:12 (29): 11020-11032 被引量:1
标识
DOI:10.1039/d3tc04268e
摘要

We developed NiO/β-Ga 2 O 3 heterojunction power devices with a breakdown voltage of −644 V, a low leakage current of about 1 × 10 −6 (A cm −2 ) at −600 V and an on-resistance of 10.85 mΩ cm 2 with high thermal stability with the operation temperature higher than 130 °C.
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