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作者
Linan Zheng,
Huaizu Li,
Han Wang,
Roger Ruan,
Zhuorong Li,
Gianluca Tondi,
Heng Tian,
Hong Lei
出处
期刊:
Colloids and Surfaces A: Physicochemical and Engineering Aspects
[Elsevier BV]
日期:2025-03-01
卷期号:: 136664-136664
标识
DOI:10.1016/j.colsurfa.2025.136664
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