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A fundamental AC TDDB study of BEOL ELK in advanced technology
BEOL ELK先进技术的基础AC TDDB研究
相关领域
随时间变化的栅氧化层击穿
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期刊: 作者:M.N. Chang; Y.-H. Lee; S. Y. Lee; Yihong Huang 出版日期:2016-12-01 |
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