标题 |
Metrology-class EUV light source based on broadband emission from copper-target laser produced plasma
基于铜靶激光等离子体宽带发射的计量级EUV光源
相关领域
极紫外光刻
宽带
等离子体
激光器
铜
计量学
极端紫外线
光源
光学
材料科学
光电子学
物理
冶金
量子力学
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其它 |
期刊: 作者:Seth L. Cousin; Feng Dong; Matt Hettermann; Dave Houser; Patrick Naulleau 出版日期:2024-01-01 |
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