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 Ultrafast and selective reduction of sidewall roughness in silicon waveguides using self-perfection by liquefaction 利用液化自完善超快速选择性降低硅波导侧壁粗糙度
相关领域
材料科学
还原（数学）
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期刊：Nanotechnology 作者：Qiangfei Xia; Patrick F. Murphy; Hongwu Gao; Stephen Y. Chou 出版日期：2009-08-04 |
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