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标题
Crystalline silicon surface passivation by intrinsic silicon thin films deposited by low-frequency inductively coupled plasma
低频电感耦合等离子体沉积本征硅薄膜对晶体硅表面的钝化
相关领域
钝化 材料科学 硅 晶体硅 等离子体增强化学气相沉积 载流子寿命 薄膜 硅烷 感应耦合等离子体 退火（玻璃） 分析化学（期刊） 纳米晶硅 非晶硅 光电子学 等离子体 图层（电子） 纳米技术 化学 复合材料 物理 量子力学 色谱法
网址
https://doi.org/10.1063/1.4733701
AI链接 handle.net edu.sgdoi.org
DOI
10.1063/1.4733701 doi
其它 期刊：Journal of Applied Physics
作者：Han Zhou; D. Y. Wei; Shengzhi Xu; Shaoqing Xiao; Luxiang Xu; et al
出版日期：2012-07-01
求助人
ljh 在 2024-11-06 13:30:36 发布自陕西，悬赏 10 积分
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