Depth profile analysis of chemically amplified resist by using TOF-SIMS with gradient shaving preparations

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标题	Depth profile analysis of chemically amplified resist by using TOF-SIMS with gradient shaving preparations 基于梯度剃须制备的TOF-SIMS分析化学放大抗蚀剂的深度剖面相关领域纳米光刻胶材料科学聚合物分析化学（期刊）抵抗纳米技术化学复合材料色谱法图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2004.03.093
DOI	10.1016/j.apsusc.2004.03.093 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Naoki Man; Haruki Okumura; Hiroaki Oizumi; Naoto Nagai; Hirofumi Seki; et al 出版日期：2004-05-30
求助人	虚心盼夏在 2025-03-12 13:37:26 发布自上海，悬赏 10 积分
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