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Temperature dependence of the sticking coefficients of bis-diethyl aminosilane and trimethylaluminum in atomic layer deposition
原子层沉积中双二乙基氨基硅烷与三甲基铝粘附系数的温度依赖性
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者:Matthias C. Schwille; Timo Schössler; Florian Schön; M. Oettel; Johann W. Bartha 出版日期:2016-12-02 |
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