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 Comparison of thermal and atomic-layer-deposited oxides on 4H-SiC after post-oxidation-annealing in nitric oxide 4H-SiC在一氧化氮中后氧化退火后热沉积和原子层沉积氧化物的比较
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Changhyun Kim; Jeong Hyun Moon; Jeong Hyuk Yim; Do Hyun Lee; Jong-Ho Lee; et al 出版日期：2012-02-20 |
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