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 Directed Self‐Assembly of Polystyrene‐Block‐Polyhedral Oligomeric Silsesquioxane Monolayer by Nano‐Trench for Nanopatterning 用于纳米图案化的聚苯乙烯-嵌段-多面体低聚倍半硅氧烷单层的纳米沟槽定向自组装
相关领域
材料科学
倍半硅氧烷
聚苯乙烯
平版印刷术
反应离子刻蚀
单层
纳米技术
蚀刻（微加工）
干法蚀刻
自组装
聚合物
图层（电子）
光电子学
复合材料
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| 其它 |
期刊：Small 作者：Chen-Kuo Tung; Feng Ye; Wei‐Yi Li; The Anh Nguyen; Ming‐Chang Lee; et al 出版日期：2024-07-19 |
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