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 Plasma-assisted thermal-cyclic atomic-layer etching of tungsten and control of its selectivity to titanium nitride 等离子体辅助钨原子层热循环刻蚀及其对氮化钛选择性的控制
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期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Kazunori Shinoda; Norikazu Miyoshi; Hiroyuki Kobayashi; Yuko Hanaoka; Masaru Izawa; et al 出版日期：2022-02-04 |
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