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标题
Atomic Layer Deposition of Boron Oxide as Dopant Source for Shallow Doping of Silicon
作为硅浅掺杂源的氧化硼原子层沉积
相关领域
掺杂剂 兴奋剂 硼 材料科学 原子层沉积 硅 图层（电子） 沉积（地质） 光电子学 氧化物 氧化硼 氧化硅 纳米技术 冶金 化学 地质学 有机化学 古生物学 氮化硅 沉积物
网址
https://doi.org/10.1149/ma2010-01/17/943
DOI
10.1149/ma2010-01/17/943 doi
其它 期刊：Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society. CD-ROM)
作者：Bodo Kalkofen; Edmund P. Burte
出版日期：2010-02-05
求助人
专注从波 在 2024-12-15 10:50:15 发布自甘肃，悬赏 10 积分
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