The effects on heat and oxygen transport of different heat shield and sidewall insulation designs during continuous Czochralski silicon crystal growth

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标题	The effects on heat and oxygen transport of different heat shield and sidewall insulation designs during continuous Czochralski silicon crystal growth 直拉硅晶体连续生长过程中不同隔热罩和侧壁隔热设计对热和氧传输的影响相关领域硅护盾材料科学氧气直拉法晶体生长光电子学复合材料化学结晶学地质学岩石学有机化学
网址	https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2024.127762
DOI	10.1016/j.jcrysgro.2024.127762 doi
其它	期刊：Journal of Crystal Growth 作者：Thi-Hoai-Thu Nguyen; Jyh-Chen Chen; Chun-Chung Chen 出版日期：2024-05-21
求助人	强强强在 2025-02-19 09:02:30 发布自云南，悬赏 10 积分
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