Recent Progress in Simple and Cost‐Effective Top‐Down Lithography for ≈10 nm Scale Nanopatterns: From Edge Lithography to Secondary Sputtering Lithography

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标题	Recent Progress in Simple and Cost‐Effective Top‐Down Lithography for ≈10 nm Scale Nanopatterns: From Edge Lithography to Secondary Sputtering Lithography 用于≈10 nm尺度纳米图案的简单且经济的自上而下光刻的最新进展：从边缘光刻到二次溅射光刻相关领域平版印刷术材料科学溅射纳米技术 GSM演进的增强数据速率极紫外光刻吞吐量下一代光刻抵抗光电子学电子束光刻计算机科学薄膜电信无线图层（电子）
网址	https://pubmed.ncbi.nlm.nih.gov/32243015 AI链接 nih.govdoi.org
DOI	10.1002/adma.201907101 doi
求助人	xiaokun 在 2025-02-11 18:05:55 发布自山西，悬赏 10 积分
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